【トリートメント マスク AG】
水、BG、グリセリン、ベタイン、グリコシルトレハロース、エリンギウムマリチムムカルス培養液、クリスマムマリチマムカルス培養液、カルノシン、加水分解コンキオリン、ヘマトコッカスプルビアリスエキス、アスコフィルムノドスムエキス、アスタキサンチン、プランクトンエキス、アスパラゴプシスアルマタエキス、アセチルヘキサペプチド－1、ヘキサペプチド－2、ヘキサペプチド－3、トコフェロール、スクワラン、フィトステロールズ、デキストラン、水添レシチン、加水分解水添デンプン、1，2－ヘキサンジオール、ペンチレングリコール、（スチレン／VP）コポリマー、（アクリル酸ヒドロキシエチル／アクリロイルジメチルタウリンNa）コポリマー、PEG－60水添ヒマシ油、キサンタンガム、ポリソルベート60、イソステアリン酸ソルビタン、ソルビン酸、ソルビン酸K、ソルビトール、クエン酸、クエン酸Na、フェネチルアルコール、カルボマー、（アクリレーツ／アクリル酸アルキル（C10－30））クロスポリマー、水酸化K、フェノキシエタノール、香料

【トリートメント マスク MW】
水、BG、グリセリン、ジグリセリン、エリンギウムマリチムムカルス培養液、クリスマムマリチマムカルス培養液、ガゴメエキス、水溶性コラーゲン、α－アルブチン、アスコフィルムノドスムエキス、加水分解コンキオリン、ヒアルロン酸Na、異性化糖、アセチルヘキサペプチド－1、アセチルヘキサペプチド－8、ヘキサペプチド－2、ベタイン、デキストラン、グリコシルトレハロース、クエン酸、クエン酸Na、リン酸Na、リン酸2Na、加水分解水添デンプン、1，2－ヘキサンジオール、グリセリルグルコシド、PEG－60水添ヒマシ油、カルボマー、（アクリレーツ／アクリル酸アルキル（C10－30））クロスポリマー、カプリリルグリコール、水酸化K、フェノキシエタノール、香料

【トリートメント マスク GK】
水、BG、グリセリン、ベタイン、エリンギウムマリチムムカルス培養液、クリスマムマリチマムカルス培養液、グリチルリチン酸2K、ジグリセリン、加水分解アルギン、アルテミアエキス、加水分解コンキオリン、アルテロモナス発酵エキス、エクトイン、アセチルヘキサペプチド－1、パルミトイルトリペプチド－8、ヘキサペプチド－2、トコフェロール、スクワラン、デキストラン、シクロヘキサン－1，4－ジカルボン酸ビスエトキシジグリコール、1，2－ヘキサンジオール、PEG－60水添ヒマシ油、（アクリレーツ／アクリル酸アルキル（C10－30））クロスポリマー、カルボマー、水酸化K、フェノキシエタノール、香料